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硅
1. 基本特性:
原子量 28.086
电离电位 8.1 (ev)
离解能 8.3 (ev)
2. 样品处理:
LiBO3; HNO3+HF+HBO3; NaOH.
3. 分析条件
分析线 251.6 nm
狭缝 0.2 nm
空心阴极灯电流(w) 2.5 mA
4. 干扰:
光谱干扰:
元素 谱线(nm)
Hf 251.7
V 251.7
化学干扰:
K,Na,Al,Ca,H3PO4.
5. 标准溶液制备:
储备液: 1000 ug/ml
<1>溶解5.056g硅酸钠[Na2SiO3.9H2O]于300ml去离子水中并用盐酸调节PH约为5. 稀释至500ml存于聚乙烯瓶中.
<2>在铂坩锅中加热15分钟熔化0.241g二氧化硅和4.6g碳酸钠.冷却后用去离子水稀释至100ml并保存于聚乙烯瓶中.
分析液:
在每次分析前,用水稀释储备液。同时加氢氧化钠调节钠离子浓度到恒定水平.
6. 火焰标准条件:
火焰类型 氧化亚氮-乙炔,还原焰(富燃,红色)
燃气压力 Mpa 流量 l/min
助燃气压力 Mpa 流量 l/min
火焰高度(mm)
长度(mm) 50
特征浓度(ug/ml) 1.8
线性范围(ug/ml) 0--150
其它分析线:
波长nm 相对灵敏度
251.6 1.0
250.7 2.8
252.8 3.2
252.4 3.7
221.7 4.3
221.1 8.0
7. 火焰发射
火焰 狭缝(nm) 波长(nm)
N2O-C2H2 0.2 251.6
8. 石墨炉标准条件
*灰化温度(鳦) : 1600
*原子化温度(鳦): 2800
特征量 (Pg) : 200
线性范围(Pg) : 10000
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